草创公司xLight 是一家专心于芯片光刻技能的企业,其中心计划是为极紫外光刻(EUV)设备打造根据自由电子激光器(FEL)的新式光源。与传统技能途径不同,该公司将选用粒子加速器发生高能电子束,从而激起极紫外光子。据称,这种技能计划的功率将远超现在干流的激光等离子体(LPP)计划。需求咱们来重视的是,这也是美国本乡草创企业初次进入该细分范畴。
自特朗普政府执政以来,芯片职业的战略重要性显着提高,这也使得该范畴十分重视。美国政府一方面推动台积电等芯片制作商加大在美出资,另一方面也向英特尔等企业注资,以保证美国技能优势。现在,美国商务部好像正计划为有望强化本乡芯片制作才能的公司能够供给支撑——草创公司 xLight 便凭仗《芯片与科学法案》(CHIPS Act)获得了 1.5 亿美元联邦鼓励资金。
“重振摩尔定律、重夺美国在光刻光源范畴的领导地位,这是一个千载一时的时机。在联邦政府的支撑下,xLight 将把时机转化为实际。打造一款能效较现存技能提高十倍的高效 EUV 激光器,不只将敞开摩尔定律的下一个年代、提高晶圆厂产能,更将构建要害的本乡技能才能。”xLight 董事会履行主席帕特・基辛格表明。
光刻范畴的专业玩家本就屈指可数,因而该细分赛道出现的每一家草创公司都会招引职业高度重视。另一个典型事例是 Substrate 公司,该公司声称将选用更短波长的 X 射线进行芯片图形化,并获得了彼得・蒂尔旗下创始人基金(Founders Fund)的出资。而 xLight 则将在奥尔巴尼纳米技能园区(Albany Nanotech Complex)合作伙伴的支撑下,全力推动 FEL 基光源的研制。
不过,xLight 现在仍面对多重应战:即使成功研制出适用于 EUV 设备的 FEL 光源,仍需与阿斯麦(ASML)现有的 EUV 产品做集成。这不只是一项耗资巨大的工程,还可能面对这家荷兰光刻机巨子不肯测验 FEL 技能的危险。此外,FEL 光源虽已完成科研级功能,但在高产量制作场景下的实用性仍存在不确定性。
光刻技能无疑是美国芯片职业的要害瓶颈—— 美国本乡晶圆厂现在彻底依靠阿斯麦的 EUV 设备。xLight 与 Substrate 两家公司在芯片光刻范畴的打破测验备受瞩目,虽然从纸面规划来看,两家企业都展示出了十足的决心,但终究能否霸占技能难关、完成产业化落地,仍有待调查。
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